目前借助康尼的那一套光刻机生产线，配合着新镜片，稍微改进一下差不多能造出一款功能性强大的duv光刻机了。

        对，还是duv光刻机领域，没有迈入euv，甚至因为依然还没有使用浸润光刻的方式，使用的也是霓虹的光源，单论极限性能的话甚至还略逊色于阿斯麦现在拿出来的duv浸润光刻机！

        是的，是逊色……

        毕竟现在只是有镜头优势，光源和浸润光刻方式上的差距会导致上限低一些。

        甚至目前解决的也就是光刻机问题，晶圆厂这边的相关工艺都还未能解锁。

        不过好处是，虽然王易用的还是干式光刻，光源也略逊，但硬生生的靠着镜头的性能优势，可以确保14nm程度下的良品率要超越阿斯麦的光刻机！

        阿斯麦目前的光刻机靠着多次曝光，极限是可以到7nm。

        不过这对晶圆厂的制作工艺要求也很高，良品率也是问题。

        光刻机是为了量产芯片，是为了商用和赚钱的，良品率低的话甚至可能会出现亏本的问题。

        而王易目前靠着康尼的底子改出来的光刻机，在14nm层次的工艺上，良品率能够超出阿斯麦光刻机最少两成。

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