&软件设计上，因为有着安布雷拉所完成的加持，也让他们的设计工作变得更加容易、简单且高效！

        安布雷拉对镜头方面的优势，也让euv光刻机的效率，比原本阿斯麦设计的要高一些。

        不过euv光刻机超高的耗电量，以及良品率方面的一些数据，还是让最新工艺芯片的产量以及成本都还有点问题。

        但好歹已经流片完成，已经算是拿出实物了！阑

        要知道算起来，前面的14nm工艺的芯片应该是才刚刚成为主流，还是属于最尖端的技术。

        可结果现在一下就大跨步的来到了5nm工艺！

        已经完全打破了正常的商业更迭行为！

        就单纯的按照晶体管数来算，单位密度提升接近三倍！

        又因为有着更契合的eda软件，多重配合简直是如虎添翼。

        而其他公司的发声，也紧随水果而来。

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