&光刻机可以说只是‘试试水’的产品。

        为啥一直用干式的光刻法？

        其实就是因为euv光刻机是无法使用浸润法的，甚至euv光刻机还不能用传统的干式，而是要用‘真空’环境。

        因为极紫外线已经是电离辐射，足够将空气电离了，更别说液体。

        这种情况下大本营之外的当然还是duv，但蓬来上本来就是王易亲自打造的镜片配套的euv光刻体系。

        结构上和以前的duv都还相当类似，完全成熟的技术。

        不像阿斯麦的euv光刻机因为没有可以让极紫外线通过的镜头，需要使用反射，能量损失极为严重，每次反射都要浪费30%左右，最终只有2%的利用率。

        体积增大的同时光源的高功率还需要配套冷却系统，几乎是相当于完全新开一条赛道了。

        所以其实王易这边的euv光刻机出来的还要更早，而且效率和良品率也要远超！

        “可是他们也有euv了呀，硅基芯片的物理极限都快到了，老板，人家要升级嘛~”

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